シリコンとゲルマニウムによるコア-シェル構造ナノワイヤ中のホウ素分布の観察

３次元アトムプローブ分析技術を半導体ナノワイヤに適用して、その内部の元素分布を調べた。本研究ではp型ドーパントのホウ素に着目し、シリコンとゲルマニウムによるコア-シェル構造ナノワイヤ中のホウ素分布を明らかにした。